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GHK-BEX/GWY耐高溫接近開關(guān)技術(shù)指標(biāo)

用于生產(chǎn)耐高溫接近開關(guān)的先進(jìn)技術(shù)利用半導(dǎo)體制造中的多種原理來生產(chǎn)接近開關(guān)接近開關(guān)可包括集成在襯底上的單片信號調(diào)節(jié)電路。使用的信號調(diào)理器包括用于接近開關(guān)的CMOS定時器，并產(chǎn)生近似線性的電壓輸出接近開關(guān)± 2%相對濕度，5%至95%相對濕度。接近開關(guān)和電容效應(yīng)、接近開關(guān)連接電纜的電容變化受傳感元件和信號調(diào)節(jié)電路之間的距離限制。除非對接近開關(guān)進(jìn)行激光調(diào)整以將方差減小到± 2%或提供基于計算機(jī)的重新校準(zhǔn)方法，否則直接現(xiàn)場互換性可能會出現(xiàn)問題。

基于接近開關(guān)，它在低相對濕度下提供離散信號變化，在長期使用中保持穩(wěn)定，漂移小，但在小于幾個相對濕度時不是線性的。這些特性導(dǎo)致了露點(diǎn)測量系統(tǒng)的發(fā)展，包括基于接近開關(guān)和微處理器的電路，這些電路將校準(zhǔn)數(shù)據(jù)存儲在非易失性存儲器接近開關(guān)單片電路中，以提供作為相對濕度函數(shù)的電壓輸出。基于計算機(jī)的系統(tǒng)記錄的電壓輸出范圍為-40度到27度。使用可追溯的冷鏡濕度計確認(rèn)參考露點(diǎn)。然后，接近開關(guān)中獲得的電壓和露點(diǎn)或冰點(diǎn)值存儲在線性回歸算法中的儀器微處理器中，這些值與同時進(jìn)行的干球溫度測量一起用于計算水蒸氣壓力。

接近開關(guān)通常由貴金屬電極組成，貴金屬電極通過光刻膠技術(shù)沉積在基板上，或沉積在塑料或玻璃圓柱體上的纏繞電極上?；淄坑宣}或?qū)щ娋酆衔铩．?dāng)它溶解或懸浮在液體粘合劑中時，它起到均勻涂層接近開關(guān)的作用?；蛘?，可以用活化化學(xué)物(例如酸)處理基質(zhì)。

耐高溫接近開關(guān)可生產(chǎn)各種規(guī)格、尺寸和形狀，包括集成單片電子元件。在涂有多孔金屬電極的基板接近開關(guān)上的兩個導(dǎo)電電極之間沉積聚合物或金屬氧化物膜以防止污染和暴露于冷凝?；逋ǔ椴Ａ?、陶瓷或硅(增量介電常數(shù)幾乎與周圍環(huán)境的相對濕度成正比接近開關(guān)，其特點(diǎn)是溫度系數(shù)低，能在高溫下工作，從冷凝中恢復(fù)，并具有合理的耐化學(xué)蒸汽性。